教育及工作經(jīng)歷
2011年-至今：武漢工程大學(xué)8188www威尼斯，材料物理專業(yè)
2009年-2011年：中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院，等離子體物理專業(yè)，博士學(xué)位
2005年-2009年：武漢工程大學(xué)材料學(xué)院，材料物理專業(yè)，碩士學(xué)位
2001年-2005年：重慶工商大學(xué)數(shù)理學(xué)院學(xué)院，數(shù)學(xué)與應(yīng)用數(shù)學(xué)專業(yè)，學(xué)士學(xué)位
研究方向
等離子體技術(shù)及應(yīng)用
MPCVD金剛石
微波等離子體模擬計算
主講課程
微波技術(shù)與應(yīng)用（本科生）
材料物理專業(yè)實驗（本科生）
微波電磁場理論（研究生）
科研項目
湖北省教育廳青年基金：大面積微波等離子體裝置模式轉(zhuǎn)換器的模擬研究，2015-2012年，主持。
國家自然科學(xué)基金：光學(xué)級金剛石膜的制備研究，2014-2017年，參與。
橫向基金：專業(yè)設(shè)備升降機(jī)系統(tǒng)的研制，2017-2018年，參與。
代表性成果
論文
Liu,Jianhua Wang, Songyuan Dai,Numerical simulation and design of a new microwaveannular waveguide plasma source—I: Simulations without the plasma parameters,Int. J. Numer. Model. 2011; 24:526–534.
XiongL.W., Liu F, Wang, J.H., Man W.D., Weng J, Liu C.L., Plasma processing ofboron-doped nano-crystalline diamond thin film fabricated on poly-crystallinediamond thick film, Plasma Science & Technology, 2010,12(4):433-436 32.
Weng J, Liu F, Xiong L W, et al. Deposition oflarge area uniform diamond films by microwave plasma CVD[J]. Vacuum, 2018, 147.
Weng J, Liu F, Xiong L W, et al. Investigation onthe influence of high deposition pressure on the mcirostructure and hydrogenimpurity incorporated in nanocrystalline diamond films[J]. Journal of CrystalGrowth, 2018, 495:1-8.
翁俊,劉繁,孫祁, et al. CO2-CH4沉積氣氛中金剛石膜晶粒尺寸的控制研究[J].表面技術(shù),2018.
翁俊,劉繁,周程, et al.甲烷與氫氣的流量比在高功率下對生長金剛石膜的影響研究[J].表面技術(shù),2018.
劉繁，翁俊，汪建華.常壓微波等離子體炬的模擬及硫化氫處理[J].強激光與粒子束, 2015, 27(11):27119002.
劉繁,汪建華,王秋良,等.常壓微波等離子體炬裝置的模擬與設(shè)計[J].強激光與粒子束,2011,23(6):1504-1508.
劉繁,汪建華. TE103單模諧振腔的計算模擬及優(yōu)化[J].武漢工程大學(xué)學(xué)報, 2009, 31:56-59.
劉繁,汪建華.MPCVD諧振腔內(nèi)電磁場分布的數(shù)值模擬[J].材料導(dǎo)報,2007.
劉繁,李國偉,馬志斌,等.矩形壓縮諧振腔內(nèi)基底對電場影響的仿真模擬[J].武漢工程大學(xué)學(xué)報,2013, 35:51-54.
