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姓名：翁俊 職稱：講師 郵箱：596255265@qq.com 地址：湖北省武漢市武漢工程大學(xué)8188www威尼斯A206 |
教育及工作經(jīng)歷
2014年-今：武漢工程大學(xué)8188www威尼斯，材料物理專業(yè)，講師
2011年-2014年：中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院等離子體物理研究所，等離子體物理專業(yè)，博士學(xué)位
2008年-2011年：武漢工程大學(xué)8188www威尼斯，材料學(xué)專業(yè)，碩士學(xué)位
2004年-2008年：武漢工程大學(xué)8188www威尼斯，材料物理專業(yè)，學(xué)士學(xué)位
研究方向
等離子體技術(shù)及應(yīng)用
微波等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)及應(yīng)用
金剛石材料的制備及應(yīng)用
主講課程
材料導(dǎo)論（本科生）
等離子體化學(xué)與工藝（研究生）
等離子體診斷（研究生）
科研項(xiàng)目
橫向基金：微波等離子體外延生長(zhǎng)單晶金剛石工藝及設(shè)備的研發(fā)，2017年，主持。
橫向基金：專業(yè)設(shè)備升降機(jī)系統(tǒng)的研制，2015年，主持。
湖北省教育廳科學(xué)技術(shù)研究計(jì)劃優(yōu)秀中青年人才項(xiàng)目：微波諧振腔模式轉(zhuǎn)換器的研究，2015年，參與。
代表性成果
論文
(1)Weng J , Liu F , Xiong L W , et al. Investigation onthe influence of high deposition pressure on the mcirostructure and hydrogenimpurity incorporated in nanocrystalline diamond films. Journal of CrystalGrowth, 2018, 495:1-8.
(2)Weng J , Liu F , Xiong L W , et al. Deposition of large areauniform diamond films by microwave plasma CVD. Vacuum, 2018, 147: 134-142.
(3) Weng J , Wang J H , Dai S Y , et al. Preparation ofdiamond films with controllable surface morphology, orientation and quality inan overmoded microwave plasma CVD chamber. Applied Surface Science, 2013,276(276):529-534.
(4) Weng J , Xiong L W , Wang J H , et al. Investigation ofdepositing large area uniform diamond films in multi-mode MPCVD chamber.Diamond & Related Materials, 2012, 30:15-19.
(5) Weng J , Xiong L , Wang J , et al. Effect of Gas Sourceson the Deposition of Nano-Crystalline Diamond Films Prepared by MicrowavePlasma Enhanced Chemical Vapor Deposition. Plasma Science and Technology, 2010,12(6):761-764.
